"두려웠다" 협박 당한 삼성 출신 한국인…中 반도체 폭풍 성장의 비밀 [지금이뉴스]

중국 1위 D램 업체 창신메모리테크놀로지스(CXMT)의 전 최고경영자(CEO)가 삼성전자 출신 한국인 기술진에게 삼성전자의 핵심 반도체 공정 정보를 가져오라고 협박했다는 진술이 나왔습니다.

29일 중앙일보 보도 내용에 따르면, 해당 매체가 확보한 전 CXMT 설비투자담당 전모 씨의 진술서에서 데이비드 왕 전 CXMT CEO는 2016년 전씨 등 한국인 기술진을 불러 삼성전자의 공정레시피(PRP)와 설비 정보를 요구하며 "가져오지 않으면 한국 정부에 고발하겠다"고 압박했습니다.

삼성전자 정보인지 확인할 인맥도 있다며 거짓말하지 말라고 경고한 것으로 전해졌습니다.

전씨는 "당시 무섭고 두려웠다"고 진술했습니다.

전씨는 삼성전자에서 28년간 근무한 뒤 CXMT로 옮겼으며, 삼성전자가 약 1조6000억원을 들여 개발한 18나노 D램 공정 기술을 무단 유출해 사용한 혐의로 지난해 재판에 넘겨졌습니다.

지난 4월 1심에서 징역 7년을 선고받고 현재 항소심을 받고 있습니다.

왕 전 CEO가 요구한 18나노 공정레시피에는 D램 제조공정 약 600단계의 순서와 장비, 조건값, 설비업체와 모델명 등이 담긴 것으로 알려졌습니다.

18나노는 반도체 회로 선폭이 18나노미터(㎚·10억분의 1m)에 불과한 미세공정으로, 2016년 당시 삼성전자만 유일하게 기술 개발에 성공해 미세 공정 ‘마의 벽’을 넘었다는 평가를 받았습니다.

이 정보는 삼성전자 공정설계 엔지니어 출신 박모씨가 2016년 노트 12장에 손으로 옮겨 적어 반출한 것으로 조사됐습니다.

전씨는 법정에서 중국 정부가 18나노 기술 확보를 조건으로 CXMT에 투자하겠다는 취지의 압박이 있었으며, CXMT가 처음부터 자체 개발보다는 삼성전자 기술 확보를 추진했다고 진술했습니다.

CXMT는 2016년 허페이시 정부 산하 투자기관이 약 144억 위안, 당시 약 3조원을 출자해 설립됐으며 지난해 창사 이후 처음으로 연간 흑자를 기록했습니다.

삼성전자 출신 인력 영입도 적극적으로 추진해 일부 한국인 기술진을 팀 단위로 영입했다는 증언과 보고서가 나왔습니다.

CXMT가 단숨에 세계 4위 D램 업체로 성장한 가운데, 법조계에서는 중국 경영진의 기술 유출 개입 정황이 인정될 경우 향후 국제적인 기술분쟁에서도 삼성전자가 유리한 근거를 확보할 수 있다는 분석이 나옵니다.


오디오ㅣAI앵커
제작ㅣ이 선

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